发布时间:2018-08-02 16:21:06 文章来源:互联网
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    仅就制造水平而言,目前中国大陆还处于28nm过度到14nm工艺之间。

    中芯国际是中国大陆芯片制造业的龙头,全球排名第五,但收入只有台积电的十分之一,主要还是因为制造工艺上有代差。台积电已经掌握了7nm的工艺,而中芯国际要到2019年才能量产14nm芯片。
 
    虽然如此,中国半导体制造工艺的进步已经从之前落后国际4到5代缩小到了1-2代的差距。中芯国际在2019年量产14nm之后,力争用10年时间进入第一梯队。
 
    而不断缩小与国外先进工艺的差距的其中的一个关键就是进口最先进的光刻机。2个月前中芯国际已经向荷兰ASML订购了首台最先进的EUV(极紫外线)光刻机,价值1.2亿美元。对于芯片制造而言,必须使用EUV光刻机才能使半导体芯片进入7nm,甚至5nm时代。
 
    当然,并不是说拿到最先进的光刻机就能解决所有问题,一颗芯片从无到有,背后至少有上万人直接或间接参与生产,光刻机只是其中一环而已。但我们至少可以认为这是中国半导体发展历史上的重要一步,给了我们一个可以超越其他国家的机会。

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