中国高端光刻机技术现在如何？-随便找财经网

　　首先确认一点，我国不存在高端光刻机！

　　全球光刻机领域背景

　　全球光刻机领域如果按照高中低来区分的话，我国排位最末，整体处于低端水平；中端市场则有日本的尼康和佳能把控，这两家在过去的10年中进展不利（主要烧不起钱了，日本的经济大家也知道），整体水平止步不前，最终不敌荷兰的ASML，彻底退出高端领域。至于ASML就不说了，近10年来发展神速，已经彻底掌控了整个光刻机高端市场，占了全球光刻机80%的市场份额，代工厂商想要使用最先进工艺来生产芯片，没它的设备就不行。

　　我国光刻机发展情况

　　上海微电子（SMME）：这是我国唯一具备光刻机整机生产能力的厂商，2002年时零起步，现在能生产支持90nm工艺的光刻机（SSA600/20），这个工艺相对于ASML最先进的7nm光刻机可以说差距相当大。如果按采用光源来计算代差，那么至少差了3代。

　　当然，SMEE前进步伐不可阻挡，最新消息显示现在已经完成了65nm制造工艺的研发，未来1-2年可量产，而28nm的工艺已经在研发中。

　　就我国的现状而言，人家已经在研发5nm工艺的光刻机，而我们还在研发28nm的工艺，这当中还差了14nm、12nm、10nm、7nm这些工艺。所以，单就现在来说，我国根本就不存在什么高端光刻机。

　　武汉光电国家研究中心：2018年时曾有消息称，我国研制出了9nm光刻机，其实这是新闻的误报，这则新闻里所提到的技术其实是能光刻出9nm的线宽的线段，或许对光刻机研发有帮助，但和真正的光刻机风马牛不相及。

　　最后看一下目前其他国产光刻机厂商的进展吧，见下图。

　　光刻机发展核心要靠光学

　　上面提到的SMEE其实只是光刻机的系统制造商而已，其自身并不生产任何光刻机相关零配件，用直白的话说，SMEE本质上仍旧是全球采购然后组装（当然这里面并非没技术含量）。因此，想要真正生产出高端光刻机，并且在零部件上不受制于人，不能仅靠SMEE，核心还是得提高我们整体制造业的水平。

　　尤其是光学器件，因为对光刻机来说，最核心的技术其实是对光学的应用，现代光刻机核心三大件是光源、镜头、光栅，这三项都属于光学器件，分别由美德两国掌握。日系厂商这2年没有取得突破，核心问题也在这些零配件上，可以说这些技术内容直接卡了中日两国的脖子。

　　因此，未来我国想要进军高端光刻机市场，并且想要完全实现独立自主，那么势必要在这些核心领域取得突破，否则今后仍旧会受制于人。

　　Lscssh科技官观点：

　　最终想说我国的光刻机还处于较低的水平，但我们已经在快速的发展中，未来几年应该能拉进和竞争对手的距离。同时，如果想要彻底摆脱被外国企业断供的可能，那么则需要更长的发展时间，需要国内整个制造业水平的提升，尤其是光学领域。

相关文章推荐