发布时间:2020-03-09 15:38:39 文章来源:互联网
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  N+1制程目前仅有中芯在提,这里我就给题主以及网友详细讲讲中芯这方面的情况吧!

  1、N+1需要7nm光刻机

  首先得明确一点,任何芯片的生产都需要光刻机,没有光刻机代工厂是无法有效生产的,因此中芯N+1制程也是需要光刻机的。

  目前中芯并未明确N+1制程是多少nm工艺,按照其提供的参数来看,业内预估是7nm工艺。如果按此计算的话,中芯N+1需要7nm的光刻机。

  而事实上中芯也已经向荷兰ASML采购了一台7nm EUV光刻机,但现阶段这台机器一直未到位。背后的原因很简单,,荷兰自然也得跟随大佬的脚步,现在这机器至今未获得荷兰的出口许可。

  2、没有7nm光刻机怎么办?

  中芯现阶段既拿不到7nm光刻机,又想要使用N+1制程,那该怎么解决呢?

  办法当然是有的,因为7nm制程并非百分百需要EUV光刻机,在基于现有的技术路线上完全可以采取其他技术手段来解决7nm制程的生产,当年台积电最初的7nm制程就是在未使用ASML 7nm EUV光刻机的情况下生产。

  现在可行的方式就是使用DUV多重曝光来解决,通常生产7nm工艺芯片至少得曝光4次,相比EUV光刻机只要一次即可,这种生产方式显然效率较低,成本也更高,包括芯片的良品率也会大幅降低。

  但是,在没拿到7nm EUV光刻机前中芯只能依赖这种技术手段来处理,哪怕效率低成本高,但有技术可以生产总比没有强。

  因此,在中芯当前的规划中N+1并非是必须使用7nm EUV光刻机。

  3、按规划N+2制程将应用EUV光刻机

  目前按照中芯自己的规划来看,未来到N+2时将转移到EUV光刻机,只要条件许可就必须要上。

  很显然,当中芯的制程上到N+2时,再想继续通过多重曝光只怕这良率更低,成本更高,此时就不得不必须使用EUV光刻机了,否则不仅N+2制程受影响,后续更先进的制程发展更受阻碍。要知道台积电现在已经在使用EUV光刻机生产5nm的芯片了。

  最后这里再给大家顺带说一下中芯目前的整体进展,现阶段中芯14nm工艺已经量产,前阶段也和化为签了合约为其代工,14nm的产能2020年底将达到15000万片。而N+1工艺现阶段已经完成客户导入验证,年底可以实现小规模量产,到2021年将会全面量产。

  Lscssh科技官观点:

  综合而言,中芯这2年的发展还是比较神速的,但是和三星、台积电相比差距还是相当大的,人家已经开始在量产5nm了,我们至今还只是14nm,希望未来今年中芯的发展能比较顺利,最终缩小和头部企业的代差,乃至追平。

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