我们现在能不能用逆向技术复制荷兰的光刻机技术？-随便找信息港

我们现在能不能用逆向技术复制荷兰的光刻机技术？

　　03-21 09:21

　　光刻机作为芯片产业非常关键的一个环节，一直制约着我国芯片产业的发展，目前我国的芯片一直停留在28纳米以内，这里最主要的原因是我国没有高端光刻机。

　　我国光刻机跟世界最先进水平差距仍然很大。

　　目前全球最先进并量产的芯片已经达到7nm，而且有些国家已经开始研究了3nm的芯片，可见目前我国芯片制造跟国际最先进的水平至少差三代以上。

　　虽然2018年中芯国际花了1.2亿外元跟荷兰的asml订购了一台7nm的光刻机，但是因为西方对我国实行技术封锁，在这个过程当中也出现很多波折。按照原来的合同规定，荷兰的asml应该是在2019年向中芯国际交货的，但直到现在为止，这台光刻机仍然没有完成交货。

　　由此可见，没有掌握光刻机的核心技术是多么被动的一个事情，我国作为全球芯片消费量最大的国家之一，每年进口的芯片接近2万亿人民币，但我国却造不出自己的高端芯片，而我国之所以造不出高端芯片，因为我国没有掌控高端光刻机的核心技术。

　　目前我国自主研发的光刻机已经量产的只有90纳米制程的，而45纳米制程的还在试验阶段。光刻机它不像造靴子或者生产电脑这么简单，它每提高一个制程，技术难度就大大增加，这也是为什么我国的光刻机研究一直停留在45nm而没有更进一步提升的重要原因。而制约我国光刻机研发的，主要是因为我国在一些关键技术领域，比如光源以及镜头等方面没有拿得出手的顶尖技术，结果导致光刻机研发迟迟未有进展。

　　想要实现光刻机技术突破，我觉得我们应该利用逆向思维开辟新的技术路线。

　　我觉得我国光刻机的研发目前已经陷入了一个怪圈，那就是一直想沿着asml的路线走，想要复制asml的技术路线，但如果我国长期跟在ASML后面走，我觉得我们是没法赶上asml的，毕竟asml集合了荷兰，外国，德国，韩国等多个国家的技术力量，而且这些国家在芯片技术上本身就处于全球的前列，在这种背景之下，我国完全依靠我们自己的力量去研发是很被动的。

　　所以我认为我国既然赶不上asml，还不如另辟蹊径，寻找其他提高芯片制造制程的方法，这样说不定还有机会弯道超车。就像当年asml跟日本的尼康和佳能竞争的结局一样。

　　在2004年之前，实际上asml并不是很著名，市场上的光刻机基本上都是被佳能和尼康给霸占，asml在全球光刻机市场的份额不足10%，但是一次技术路线的选择，后来让asm了独领风骚，一路高歌猛进。

　　在2004年之前，光刻机的制造工艺主要采用“干式”（以空气为介质）微影技术，但是这个技术后来遇到瓶颈，始终无法将光刻光源的193nm波长缩短到157nm，为了突破这个瓶颈，很多科学家都投入了大量的精力，很多厂家也投入了大量的资金，但在短时间之内，全球都没法攻克这个技术难题，这点有点类似于我国今天研究光刻机一样，

　　而在“干式”技术难以获得突破，大家都在排队往157nm的“墙”上撞时候，时任台积电研发副总经理的林本坚来了个脑筋急转弯：既然157nm难以突破，为什么不退回到技术成熟的193nm，把透镜和硅片之间的介质从空气换成水，由于水的折射率大约为1.4，那么波长可缩短为193/1.4=132nm，大大超过攻而不克的157nm。

　　但是当时林本坚的这一个技术并没有获得其他厂家的认可，包括尼康和佳能也没有把林本坚这个技术放在眼里，仍然在加大马力攻克“干式”技术。

　　但是有一个厂家放手一搏跟林本坚合作，大胆变换思维采用了林本坚的技术路线，这个厂家就是asml。2004年，ASML成功研发出全球第一台浸润式微影机，其波长为132纳米，虽然这个时候尼康也也宣布采用干式微影技术的157nm产品和电子束投射（EPL）产品样机研制成功，但是因为asml的光刻机波长比尼康还短25纳米，结果导致很多大型芯片厂家都跑去asml那边，而放弃尼康的光刻机，如此一来，尼康前期投入的大量资金都打了水漂，从此之后尼康的光刻机一蹶不振，而对应的asm则一路高歌猛进，到了2009年，asml已经全球占据70%的光刻机市场份额，尼康则从行业老大变成小弟，到了今天全球最顶尖的光刻机基本上都被asml一家垄断了。

　　从asml和尼康路技术路线的选择这个案例，我们或许能够得到一些启发，既然目前我国在光刻机研发方面一直没有获得进展，为什么不尝试着去研究一下其他新的路线呢？

　　而且事实证明，采用其他路线，我国是有可能实现弯道超车的。

　　比如2019年，武汉光电国家研究中心的甘棕松团队，已成功研发出9nm工艺制程的光刻机。与传统光刻机不同的是，此次的国产光刻机利用二束激光突破了光束衍射极限的限制，刻出了最小9nm线宽的线段，实现了从超分辨成像到超衍射极限光刻制造的重大创新，这也是我国独有的技术，我们也用着自主产权。

　　由此可见，在光刻机的研究道路上，我们不一定要遵循传统的路线，不一定要跟着asml的屁股走，我们完全可以突破固有的思维去寻找其他

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