发布时间:2020-04-21 11:42:33 文章来源:互联网
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  【50nm NOR Flash芯片正式面世,我们何时有7nm EUV光刻机】

  最新的消息,NOR Flash的市场规模在逐渐提升,而我国合肥恒烁半导体于近日推出第一款面向物联网应用的50nm 128Mb高速低功耗NOR Flash存储芯片,这款芯片尺寸为业界最小,并且拥有很强的成本和性能优势,对于迎接IoT时代有着深刻的意义。

  NOR Flash的再次复苏得益于IoT市场,据了解这款恒烁50nm NOR Flash具有芯片尺寸小、功耗低、速度快、成本低等特点。因此,对于未来布局IoT时代颇有意义。

  更为主要的是,这是在DRAM和NAND Flash储存芯片下,探索的又一条路。但是,我们很担忧的是,到底何时我们能够打破光刻机的束缚呢?

  我们知道中芯虽然获得了一台荷兰ASML的7nm工艺的光刻机,可是它并非是EUV光刻机,而在我国目前在售的光刻机是上海微电子的90nm光刻机,随着这个设备主要用于8寸线以及12寸线的大规模工业生产,可是也不得不让我们担心,到底什么时候我们有自己不输于荷兰的光刻机。

  这里我们要和大家聊的是一个重点的内容——

  光刻机的束缚问题。我们知道这里有几个问题束缚了我们光刻机发展:

  1.欧外国家技术的封锁。在《瓦森纳协议》的技术封锁下,尽管规定成员国自行决定是否发放敏感产品和技术的出口许可证,并在自愿基础上向“安排”其他成员国通报有关信息。但“安排”实际上完全受外国控制。所以,我们的技术,或者说像光刻机半导体的关键技术是被禁止出售给我们的。

  2.光刻机的复杂程度以及技术难度。本来光刻机的技术就被垄断,而且数万零件都基本上被国外给封锁。特别是德国蔡司镜头,外国光源,以及它的股东Intel、台积电、三星等等技术的供给,这成就了ASML,也束缚了我们。

  我们需要做的可能就是打破技术的封锁,另辟蹊径。据说,中科院制造出2纳米芯片,全称为垂直纳米环珊晶体管,如果像中科院等我国的技术研究能够突破这种束缚,我相信一定会有第一的可能。

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