我国的光刻机现在发展到了什么程度？关键部件什么时候可以国产化？-随便找财经网

　　我国的光刻机正在有条不紊的发展中，核心子系统目前均已经实现国产化，我们一起来看看。

　　1、国产光刻机的整体发展水平

　　国内光刻机厂商有不少，比如上海微电子、安芯半导体等，其中上海微电子是国内光刻机领域的领头羊，目前不仅能量产国内最好的90nm光刻机，同时也在研发最先进制程的光刻机。

　　根据近期业内透露出来的消息，上海微电子将于年底下线首台28nm制程的光刻机，这意味着我们未来2年内就可以有对应的量产机型。而根据曝光的技术指标来看，这台光刻机通过多重曝光后可用于7nm制程的芯片生产。

　　2、几大核心子系统已经国产化

　　早在2006年时我国就针对光刻机制定了长远的规划（《国家中长期科学和技术发展规划纲要（2006-2020年）》），也就是业内人士常说的02专向项目，具体名称叫：《极大规模集成电路制造技术及成套工艺》，该项目在国家16个重点专项中排第二位，可见国家层面对光刻机是非常重视的。

　　由于有长远规划，因此当前光刻机的几大重要子系统相继被科研团队攻破，一起拉看看。

　　长春光机和上海光机：这两个研究所主要研发光刻机上最重要的光学系统，长春负责物镜系统研发，上海这边主要研发照明系统。同时，长春光机还在研制EUV曝光机，如果搞定这块，我们的EUV光刻机就取得了突破性的进展。

　　其他各地光机所：除上海光机和长春光机之外，在中科院的牵头下还组织广电所、安光所等参与研发准分子激光光源（下图为原型机），这也是光刻机非常重要的子系统，这个技术我们全球第三家掌握。

　　浙大团队：世界主流光刻机都是沉浸式光刻机，这个团队就是专门研发对应的浸液系统，在荷兰ASML、日本尼康之后，我们现在也掌握了。

　　清华团队：主要研发光刻机对晶圆进行蚀刻的工件台，目前研制出的双工件台可以有效提升光刻机工作效率，这一系统技术目前仅荷兰和我们掌握，我们算是第二家。

　　以上提到的这些光刻机核心子系统均交由国内专业厂商进行了产业化生产，可以说我国的光刻机在关键部件上已经实现了较好的国产化率。

　　Lscssh科技官观点：

　　当然，光刻机是一个非常庞大的系统工程，涉及的配件数以万计，在这其中肯定还有一些零配件是进口，比较在全球一体化的今天，想要完全国产化还是有一定难度的。

　　综合来说，我国光刻机的水平正在逐步提升，尤其是核心子系统的国产化后，未来我们将迎来更高速的发展，相信终有一天我们的光刻机水平可以和荷兰ASML媲外。

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