发布时间:2020-08-31 15:14:01 文章来源:互联网
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  我国以一国之力制造光刻机这种实属无奈之举,如果没有其他国家的限制,我相信我国也没必要举全国之力去制造光刻机,毕竟研发光刻机是一个漫长而繁琐的事情。

  不过有些东西塞翁失马焉知非福,西方一些国家对我国限制芯片以及光刻机,这未必见得是一个坏事,这只会逼出一个更强大的中国,就像之前很多西方国家也对我国进行一些技术封锁,但我国都一一打破一样。

  对光刻机来说,虽然它的技术难度非常大,需要的零部件也非常多,每一个零部件都需要经过反反复复的打磨,有些核心零部件甚至我国都没法自己生产,但是只要我们下定决心去做,我相信在不久的将来,我国光刻机仍然有可能实现技术上的突破。

  毕竟我国在光刻机制造方面是有一定的基础的,我国早在上世纪六七十年代的时候就已经开始研发光科技,到了80年代的时候,我国光刻机已经跟外国只差了两三年的时间,只是后来因为开放国门之后,我国通过外部采购光刻机的成本要比国内自主研发更便宜,所以很多企业都放弃了自主研发光刻机转而采用贸易的方式从国外进口光刻机,这也直接导致我国光刻机研发停滞了好多年。

  不过从2000年开始,我国开始又重视对光刻机研发,比如上海微电子从2002年就开始成立,到了2007年就已经成功研制出90纳米的光刻机。

  虽然我国光刻机已经停留在90纳米十几年的时间了,但是前一段时间上海微电子已经宣布成功研发出28纳米光刻机,而且28纳米光刻机预计将在2021年到2022年之间实现量产。

  除了上海微电子之外,我国还有很多研究机构在光刻技术研发方面也取得了一些技术上的突破。

  比如2018年清华大学的研究团队就研发出了双工作台光刻机,这使得我国成为全球第2个具备开发双工作台光刻机的国家。

  再比如2019年,武汉光电国家研究中心研究团队已经成功研制出9纳米光刻技术,该光刻技术使用远场光学,雕刻最小线宽为9纳米的线段,从而实现了从超分辨率成像到超衍射极限光制造的重大突破。

  而在2020年7月份,中国科学院苏州纳米技术与纳米仿生研究所又成功研发出了一种新型5纳米超高精度激光光刻加工方法。

  虽然上面我们所提到的这些光刻技术还体处于实验室阶段,但既然我国科研人员能够实现技术上的突破了,未来我相信这些技术是有很大的可能会应用到实际的芯片生产当中的。

  而且现在我国已经出台政策,正式扶持集成电路产业的发展,在政策的扶持之上,我相信未来几年我国的芯片制造和光刻机制造会取得更大的突破。

  只要我国在技术上实现突破,对于我国来说想要制造出高端光刻机并非天方夜谭,毕竟我国拥有全球最完善的工业体系,拥有完整的产业链,光刻机生产所需要的大部分零件,我国都可以自给自足,只要我们在一些核心零部件上实现突破,那我国就能够生产出自己独立自主的高端光刻机。

  对于我国这种举一国之力制造光刻机的做法,我相信很多西方发达国家都会感到害怕,正因为如此,他们才处处限制向我国出口一些核心零部件和技术。

  但是限制也许短期之内会阻碍中国芯片产业的发展,但从长期来说,只会进一步刺激中国芯片产业链的独立自主,这样只会逼出一个更强大的中国。

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