1965年我国就有光刻机，可今天垄断光刻机的为什么不是中国？-随便找财经网

　　我国早期在半导体领域的发展的确不弱，由于举国体制的关系，很多产业的整体水平和国际水平并不差，单就光刻机上来说当时和日本这样的光刻机先进国家仅有5年左右的差距。

　　但是，的确很遗憾，我们在90年代，乃至进入21世纪初之后，我们的光刻机却开始止步不前了，乃至到现在落后荷兰ASML。

　　1、光刻机落伍有时代烙印

　　我国早期对光刻机的研制有举国体制的优势，在上世纪80年代上海研制出的的JKG-2光刻机就比不当时最先进的佳能光刻机差多少。

　　国企改革大量人员流失：但是，80年代我们的半导体产业看似还行，到了90年代之后就似乎停止了，这里面很大因素是当时经济发展原因。那个阶段开始针对国企改革，各种机构单位大量人员被迫下岗，包括很多研究所的人员也只能自寻出路，那时候最有名的语句就是“造导弹的不如卖红薯”，可见当年很多技术人员出现了流失，这一定程度上造成了技术研发上的断代。

　　造不如买思潮泛滥：同时，我们还需要注意一点，上世纪80年代中外和解关系正常化后，在本身落后又能买到西方先进设备的时候，国内掀起来了一股造不如买的思潮，这股歪风邪气可以说一直延续到今天。

　　在这种思维的引导下，我们在光刻机领域就没有任何的立项和投入，最终也就导致我们的光刻机彻底出现断代。

　　2、光刻机技术快速迭代

　　到了21世纪初时，我们总算再度认识到光刻机的重要性，于是在2002年建立的上海微电子专门来攻关光刻机。

　　但此时光刻机领域的技术早已实现了更新换代，旧有的技术早已经无法应对新的产业变化，而新的光刻机技术由于欧外对我们的封锁也无法接触到，此时研发光刻机相当于我们一切从头开始。

　　这种局面，我们的光刻机技术只能是落后的，毕竟现有技术路线已经彻底得到了改变。

　　3、荷兰ASML如何快速崛起

　　荷兰ASML的崛起一定程度上和技术攻关相关，台积电在2002年时提出了当前浸入式193nm技术方案，ASML采用之后仅仅用了1年时间造出了工程样机，证明了该技术方案的可行性。

　　由此，ASML一发不可收拾，开始在这条技术路线上狂奔。在ASML的发展过程中，半导体业内的几大重量级选手也纷纷倒戈到ASML身边，这里包括台积电、Intel等，这些巨头们的加入让ASML更加快速的成长，最终彻底超越和ASML争霸的日系厂商。

　　现在日系光刻机的尼康和佳能虽然还算是在中端市场混，但是早已经是江河日下一天不如一天了。

　　ASML的成功可以说是在正确的时间采用了正确的技术路线，同时获得了重要产业巨头的支持。

　　Lscssh科技官观点：

　　综合而言，我们的光刻机发展经历了初期的不落伍，中期的断代，直至现在的逐步赶上。最新消息显示，上海微电子将于今年年底下线28nm浸入式光刻机，这意味着我国的光刻机技术又向前跨越了一大步。

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